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Q150V Plus系列鍍膜儀適用于高真空應用中的超精細導電鍍膜
Q150V Plus針對高真空應用進行了進一步優化，最終真空度優于1×10-6mbar，同時配置全量程規，能夠濺射具有晶粒尺寸更細的金屬膜，適用于超高分辨率成像。得益于更低的背景真空，能夠有效的從腔室中去除氧氣、氮氣和水蒸氣避免了濺射過程中的化學反應，有效的消除鍍層中的雜質或缺陷。能夠實現制備低散射高純度金屬膜以及高密度的非晶碳膜等。Q150V Plus提供了Q150T Plus的所有功能，同時具有更精細的晶粒尺寸和更薄的鍍層，適用于超高分辨率成像應用。
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滬公網安備 31011702008509號
